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出品单位：共研网
光掩模板被定义为在一次曝光中能把图形转移的工具，简称掩膜版，是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。
光掩模板分为明基板和遮光膜。其中：明基板分为透明玻璃、透明树脂；遮光膜可分为硬质遮光膜、乳胶。
光掩模板的分类
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光学掩模版在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。光掩模产业链上游主要是光刻机、研磨基板相关抗蚀剂等；中游是光掩模版制造；下游主要应用于半导体和平板显示等行业。
光掩膜版产业链
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目前全球范围内半导体是光掩模板主要需求领域，随着半导体产业整体需求持续扩张，全球光掩膜版市场规模不断增长，2021年全球光掩膜版市场规模达46.5亿美元，预计2022年全球光掩膜版市场规模达49亿美元。
2017-2022年全球光掩模板市场规模走势
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目前，全球光掩模板市场主要由美国Photronics、日本DNP以及日本Toppan三家公司所垄断，占比合计达到82%。
全球光掩模板市场格局
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光掩模板行业市场前景如何？共研网发布的《2023-2029年中国光掩模板市场调查与投资前景预测报告》详细分析了光掩模板行业相关定义、全球光掩模板行业市场发展现状、中国光掩模板产业发展环境、中国光掩模板行业运行情况、中国光掩模板所属行业运行数据监测、中国光掩模板市场格局、中国光掩模板行业需求特点与动态、中国光掩模板行业区域市场现状、中国光掩模板行业竞争情况、中国光掩模板行业发展前景分析与预测、中国光掩模板行业发展策略及投资建议等，帮助企业和投资者了解光掩模板行业市场投资价值。您若想对光掩模板行业有个系统的了解或者想投资光掩模板行业，本报告是您不可或缺的重要工具。
